Para atender à crescente demanda por monitoramento de temperatura de alta{0}}precisão na produção de semicondutores e fotovoltaica, nossa empresa lançou uma série de termopares de perfil de alto-desempenho para testes de temperatura interna de fornos.
Esta série é dividida em dois tipos para fornos de difusão e fornos de oxidação, com tipos de graduação S/R, K/N disponíveis. Com uma faixa máxima de medição de até 1.100 graus e diversos pontos de medição de 3 a 9, ele realiza-detecção de temperatura com cobertura total de wafers de silício. Adotando materiais premium de quartzo e aço inoxidável, o termopar apresenta baixo erro de medição, resposta térmica rápida e longa vida útil. Enquanto isso, o produto é otimizado para desempenho-de baixa poluição, o que não afetará o processo de produção de wafer.
A montagem flexível e a personalização personalizada do comprimento, diâmetro e modo de instalação da sonda tornam-na amplamente aplicável a fornos de difusão, fornos de oxidação, fornos de recozimento e outros equipamentos de produção principal. Nosso termopar de perfil fornece dados de perfil térmico estáveis e precisos, ajudando as empresas a melhorar a eficiência do processo e o rendimento do produto.
Continuaremos otimizando as soluções de detecção de temperatura para apoiar o desenvolvimento de alta-qualidade das indústrias globais de semicondutores e fotovoltaicos.