Termopar multiponto principal

O forno de difusão de oxidação é um equipamento -chave de processo para a produção de células fotovoltaicas. Ele mistura e difunde quantidades de rastreamento de boro, fósforo e outros elementos na bolacha de silício em altas temperaturas para preparar junções PN e compõe circuitos integrados.

Descrição dos produtos

É comum o uso de termopares que medem as partes interna e externa do forno para controlar a temperatura interna do forno de difusão que poderia executar o processo de oxidação. Cada zona de temperatura especificada possui um termopar externo e interno para garantir que os resultados da medida sejam confiáveis. Os termopares internos são usados para medir a temperatura da wafer, geralmente possui 3 ~ 9 pontos de medição, representando a temperatura da wafer com precisão. Os termopares externos são usados para detectar a superfície externa do tubo do forno, cada um geralmente possui apenas um par de fios, para dar uma medição indireta do forno. Geralmente, a temperatura do processo de oxidação é menor que o processo de difusão, portanto, o termopar o multiponto principal do tipo K e N pode ser implantado.

Parâmetros técnicos	Termopar multiponto principal
Parâmetros técnicos	Dentro
Tipo	K,N
Diâmetro de arame ou imita	φ2~4
Temperada de trabalho (grau)	0~950
Precisão (grau)	± 1,5 ou 0. 4%· t
Comprimento do tubo de proteção (mm)	Menor ou igual a 4000
Diâmetro do tubo de proteção (mm)	φ14~22
Material de tubo de proteção	310s ou 321
Estrutura final quente	Isolado
Número de pontos	3 ~ 9 pontos
Rescisão	Pequeno conector
Fio de compensação	Kx (nx) {{0}} × 0,5fpf
Características da estrutura	Fácil de desmontar, T/C para qualquer ponto pode ser removido, se necessário